备克汉姆 发表于 2019-10-24 21:55:55

半导体制程培训CMP和蚀刻技术ppt资料下载

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**** Hidden Message *****

①干法刻蚀    利用等离子体将不要的材料去除（亚微米尺寸下刻蚀器件的最主要方法）。
②湿法刻蚀利用腐蚀性液体将不要的材料去除。• Plasma就是等离子体(台湾一般称为电浆),由气体电离后产生的正负带电离子以及分子,原子和原子团组成.只有强电场作用下雪崩电离发生时,Plasma才会产生.
• 气体从常态到等离子体的转变,也是从绝缘体到导体的转变.
• Plasma 一些例子:荧光灯,闪电等.


StaceyQ 发表于 2020-11-5 21:07:37

好东东，谢谢老大分享！

wuyu 发表于 2020-11-5 21:18:51

受教，谢谢分享~

cec456 发表于 2020-11-8 23:25:49

楼主威武，谢谢分享

tomjimi 发表于 2020-11-17 21:57:31

感谢楼主分享！

奔奔最快 发表于 2020-11-18 22:35:56

感谢楼主分享！

我是妖怪 发表于 2020-11-26 23:11:30

受教，谢谢分享~

透明 发表于 2020-11-29 22:09:45

好东东，谢谢老大分享！

ntxcai 发表于 2020-12-3 22:30:10

不错，支持支持。。。

2365144832 发表于 2020-12-4 23:53:40

这个不错，感谢分享啦
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